光刻機是干什么用的 光刻機是誰發(fā)明的
2020-08-14 天奇生活 【 字體：大 中 小 】
光刻機又名掩模對準(zhǔn)曝光機、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機的種類可分為：接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。
光刻機的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上。然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。光刻機的制造和維護需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)，因此，世界上只有少數(shù)廠家掌握。
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光刻機是什么 光刻機是什么東西
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光刻機是干什么用的 光刻機是誰發(fā)明的
光刻機又名掩模對準(zhǔn)曝光機、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機的種類可分為：接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。
光刻機是什么
光刻機又名掩模對準(zhǔn)曝光機、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機的種類可分為：接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。光刻機的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模。
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是指使用之前的模板再次生產(chǎn)，顏色和包裝可能會有所不同。復(fù)刻是將之前生產(chǎn)過的正品鞋再次生產(chǎn)，其中一部分進行創(chuàng)新配色，但使用的是之前正品使用的材料。無論是再版或者復(fù)刻，都會與第一版有區(qū)分。
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